2000度高真空加热炉为小型2000钨带炉。

实验室真空钨钼烧结炉紧凑结构，专为研发实验室高真空高温环境使用而设计。WSF钨带片加热炉和MSF钼带片加热炉都是金属屏构造，标配10层金属防辐射隔热板，单温区炉壁加热，热稳定性极高。1400℃钼带炉、1600℃钼带炉、2000钨带炉、2200钨带炉.

MSF钼带片加热炉整个圆形炉膛被加热元件和保温隔热材料包围，外面再加一层水冷保护层。MSF钼带片加热炉加热元件采用条状钼带，金属屏有钼层+不锈钢层组成；WSF钨带片加热炉加热元件采用条状钨带，金属屏有钨层+钼层+不锈钢层组成；为了增加温度均匀性，样品可以用气氛盒保护起来。选配不同的真空泵系统，可以达到真空度要求：真空度可达6.67*104pa。 气体流量由转子流量计控制或质量流量计控制。

该金属屏炉有钨和钼制成的加热元件和防辐射隔热板，加热温度可以分别到2200°C和1600°C。防辐射隔热板可以避免加热元件的热量直接影响水冷层。金属结构炉膛具有洁净度高、真空度高或气氛环境纯度高的特点。

设备应用：

退火、铜焊、陶瓷注射成型（CIM）、脱脂、脱气、干燥、硬化、金属注射成型（MIM）、热解、淬火、快速成型、硅化、烧结、焊接、升华、合成、回火, 金属注射成型(MIM), 陶瓷注射成型(CIM)、3D增益制造

真空炉中使用什么类型的加热元件？